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　　CNW氣相色譜頂空溶劑包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性樣品和非水溶性樣品中有機(jī)殘留溶劑分析常用的頂空溶劑，如DMSO、DMF、DMA、NMP。
　　下面是HPLC 級DMSO、DMF、DMA 與HS-GC（氣相頂空）級DMSO、DMF、DMA 進(jìn)行HS-GC-MS 分析譜圖對比：

　　下圖為不同品牌質(zhì)控指標(biāo)對比：

　　對比結(jié)果：安譜實(shí)驗(yàn)頂空溶劑（Class1,2,3）殘留溶劑含量均小于其他競爭品牌
　　CNW 氣相色譜頂空溶劑具有以下優(yōu)勢：

　　GC-HS 級別高純?nèi)軇┣鍐危?br />

　　頂空溶劑實(shí)驗(yàn)小貼士
　　檢測器的選擇
　　一般選用FID檢測器，對含鹵素的有機(jī)溶劑如氯仿等，采用ECD檢測器可得到更高的靈敏度。
　　溫度的選擇
　　頂空溫度應(yīng)根據(jù)溶解供試品溶劑的特性及供試品中殘留溶劑的沸點(diǎn)選擇。以水為溶劑及測定低沸點(diǎn)殘留溶劑時(shí)，頂空溫度不宜超過85℃；測定沸點(diǎn)較高的殘留溶劑時(shí)，通常選擇較高的頂空溫度；以DMSO 為溶劑時(shí)，頂空溫度不宜超過115℃。
　　時(shí)間的確定
　　頂空時(shí)間是要確保供試品溶液的氣- 液兩相達(dá)到平衡，一般通過測定頂空時(shí)間與頂空氣體濃度的濃度—時(shí)間曲線來確定。頂空時(shí)間不宜過長，一般為30～45分鐘。

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